オネストの行動方針

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丁寧な対応

お客様の声に常に真摯に耳を傾け、商品開発とサービスに活かしてまいります

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環境の配慮

地球環境に配慮し、地域社会に貢献します

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高品質・短納期

お客様にあった商品を高品質・短納期にてご用意致します

事業内容

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ガラス基板

光学・電子デバイス用途に最適なガラス基板を取り扱っています。 石英ガラス(合成石英・溶融石英)、ホウケイ酸ガラス(Borofloat®等) アルミノシリケートガラスなど、 用途に応じた材質・厚み・面精度・加工対応が可能です。 透明性・熱安定性・化学耐性に優れた製品をご提供します。

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各種ケース

シリコン・SiC・ガラス・化合物基板の搬送・保管用に 最適なウェハケースをご用意。 サイズは1〜12インチに対応し、クリーン環境下でも使用可能な 防塵・耐薬品性に優れた材質(PP、PFA等)を採用。 ノッチ位置保持やロック機構など各種仕様にも対応可能です。

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加工&検査

パワーデバイス向け高純度SiCウェハ。 低欠陥密度・高結晶性を確保し 各種カスタム仕様に対応可能です。

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SICウェハ

パワーデバイス向け高純度SiCウェハ。 低欠陥密度・高結晶性を確保し 各種カスタム仕様に対応可能です。

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サファイア基板

2〜8インチ対応の単結晶サファイア基板。 LED・RF用途に最適な高品質サファイア基板。 C面・A面・R面など各種面方位、エピ対応研磨にも対応可能です。

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化合物基板

GaN、GaAs、InP、LT、LNなど各種化合物基板を取り扱い。 用途に応じた面方位・サイズ指定・研磨対応が可能です。 光・通信・パワーデバイス向け各種化合物基板をラインナップ。 結晶性・表面処理など細かな仕様にも対応。

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Siウェハ

1〜12インチ対応。 導電型・抵抗率・面方位など、用途に応じた オーダーメイドのシリコンウェハを提供致します。

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成膜ウェハ

1〜12インチ対応。 PVD・CVD・熱酸化膜・蒸着・ALDなど 各種成膜ウェハを用途に合わせてご提供致します。

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パターンウェハ

各種リソグラフィー・エッチングに対応した 試験用パターンウェハ。 寸法精度・膜厚管理に優れた設計対応が可能です。

オネストの特徴

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お客様に合わせた対応力

小ロット1枚から対応可能研究・開発用途など、少量のご要望にも柔軟に対応。1枚単位からのご注文も歓迎しております。お気軽にご相談ください。

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多種多様な商材の取り扱い

多様な材質・サイズに対応シリコン、SiC、GaN、サファイア、ガラスなど幅広い基板材料を取り扱い。1〜12インチまで、各種カスタム仕様にも対応いたします。

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アフターサポート

技術サポートと迅速な対応仕様や用途に応じた最適な製品選定のサポートを行っております。お急ぎの納期にも柔軟にご対応いたします

会社概要

会社名 株式会社オネスト
所在地 〒160-0023 東京都新宿区西新宿三丁目3番-13号 西新宿水間ビル6階
設立 2022年6月23日
資本金 1,000万円
電話番号 050-8885-7592
FAX 050-3142-9795

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